感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反响，使得这种资料的物理功能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经恰当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图画（见图光致抗蚀剂成像制版进程）。光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制作以及印刷制版等进程。光刻胶的技能杂乱，种类较多。依据其化学反响机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后构成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。使用这种功能，将光刻胶作涂层，就能在硅片外表刻蚀所需的电路图形。根据感光树脂的化学结构，光刻胶能够分为三种类型。①光聚合型，选用烯类单体，在光效果下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，后生成聚合物，具有构成正像的特色。②光分化型，选用含有叠氮醌类化合物的资料，经光照后,会发生光分化反响,由油溶性变为水溶性，能够制成正性胶。③光交联型，选用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏资料,在光的效果下,其分子中的双键被翻开，并使链与链之间发生交联，构成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀效果，这是一种典型的负性光刻胶。柯达公司的产品KPR胶即属此类。感光树脂在用近紫外光辐照成像时，光的波长会约束分辨率（见感光资料）的进步。为进一步进步分辨率以满意超大规模集成电路工艺的要求，有必要选用波长更短的辐射作为光源。由此发生电子束、X 射线nm)刻蚀技能和相应的电子束刻蚀胶，X射线刻蚀胶和深紫外线刻蚀胶，所刻蚀的线□m以下。
如需了解更多光刻胶的相关内容，欢迎拨打图片上的热线P光刻胶公司价格怎么核算？「赛米莱德」[赛米莱德423cnu8]
欧宝电竞官网
