众所周知的是，受制于美国在芯片范畴的封闭，我国近年来的芯片制作技能开展一向备受瞩目，尤其是光刻机的制作技能更是成为了我国芯片制作范畴开展的重中之重。
也是因而，假如想真实完成美国在芯片范畴的技能封闭，那么只需全面完成芯片全产业链的国产化才是仅有解法。
所以，除了打破芯片制作和光刻机制作这些要害制作要素外，现在而言光刻特种辅助资料的国产化打破也值得重视。
这不，就在5月份，日本就对我国断供了光刻过程中的要害耗材——光刻胶，直接导致国内多家晶圆厂将会面对KrF光刻胶大缺货的境况。
据悉，光刻胶的质量和功能对光刻工艺有着重要影响，可是其技能壁垒很高，因而长时刻被日本等国家所主导，日本在光刻胶范畴但商场份额就超越了85%！
除此之外，值得一提的是，这现已不是日本第一次对外封闭自己的光刻胶技能了。2019年时日本也曾向韩国断供过光刻胶，终究导致韩国在光刻胶范畴不得不向日本垂头！
但好消息是，日本在光刻胶范畴对我国封闭还不到两个月的时刻后，我国国产的光刻胶范畴就传来了好消息！
光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指经过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照耀或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜资料。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层资料。
光刻胶出产技能较为杂乱，种类标准较多，在电子工业集成电路的制作中，对所运用光刻胶有严厉的要求！
在20世纪80年代时，美国的IBM曾一度独占了光刻胶商场。其时，由美国IBM首先打破了KrF光刻，并在尔后的十余年时刻里形成了独占。
但其时，由于半导体的工业开展没有到达需求KrF光刻大规模放量的年代，也就是说KrF光刻实际上是一个“早产儿”。因而，其时的KrF光刻商场增速非常的缓慢！
直到，1995 年日本东京应化（TOK）成功打破了高分辨率 KrF 正性光刻胶TDUR-P007/009 并完成了商业化出售，才真实的打破了IBM 关于 KrF 光刻胶的独占。
也是因而，从1995年开端光刻机商场也逐渐从美国主导演变为佳能、尼康为龙头的年代，光刻胶商场也正式进入了日本厂商的霸主年代！
至今停止，全球光刻胶的商场份额，单日本就把握了超越85%，尤其在高分辨率的KrF、ArF和EUV光刻胶范畴。
但很多人或许不知道的是，我国在光刻胶范畴的研讨和布局实际上也早在20世纪70年代就开了，最早的时分几乎是和日本站在同一起跑线上。但终究受制于技能、资金和人才等要素，导致我国和日本的光刻胶范畴水平距离越来越大。
也是因而，此次南大光电的ArF光刻胶打破无疑是我国在整个光刻胶职业，甚至整个光刻机和半导体职业国产化追逐所迈出的重要一步。
在5月份日本对我国断供光刻胶时，日本方面给出的理由是由于“KrF光刻胶的产能有限”，但其时就有剖析人士以为日方的断供理由尽管听上去很完美，但实际上也是漏洞百出，所谓的产能有限，只不过是日方假造的托言罢了。
这一点从本年台积电斥资1.9亿美元在日本建厂就可以看出，由于台积电此次在日本的建厂并不是建造晶圆代工厂，而是建造化学质料厂在芯片资料上打开布局。
众所周知的是，一向以来台积电关于厂址的选址很垂青，因而假如日本KrF光刻胶等半导体的质料缺乏，台积电也不会把自己的化学质料厂建在日本。
其次，美国近年来一向在封闭我国的半导体范畴，而日本则是对美国此举呼应最活跃的国家之一。因而，日本在此刻挑选断供我国光刻胶实际上并不扫除是在向美国示好。
总而言之，在整个半导体范畴，要想全面完成美国的全面封闭，除了光刻机和芯片制作等要害范畴需求完成全面国产化代替以外，包含这个产业链中的上下游环节也需求完成国产化代替，才干真实不被他人卡脖子。
现在，芯片原资料范畴尽管国内现已有部分原资料完成了国产化的自主出产，但还有包含硅片、光掩膜、电子特气、抛光资料、溅射靶材在内的很多原资料彻底依靠进口。
但咱们也一起深信，以国人的才智和拼搏精神，只需咱们奋力追逐，未来这次细分职业都将终究完成国有化代替的惊人打破！
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